タワージャズ、ケイデンスとルーメリカル、完全な光トランシーバ設計環境を備えたシリコンフォトニクス-SiGe統合型PDKを発表

ミグダル ハエメク（イスラエル）、サンノゼ（米国、カリフォルニア州）およびバンクーバー（カナダ、ブリティッシュコロンビア州）2019年7月10日 – グローバルスペシャルティファンドリリーダーのタワージャズは、ケイデンス・デザイン・システムズ社(NASDAQ:CDNS)と光回路設計およびシミュレーションツールのリーディングデベロッパーのルーメリカル社と本日、シリコンフォトニクス（SiPho）とシリコンゲルマニウム（SiGe）を統合したフルカスタム設計用プロセス デザイン キット（PDK）の提供開始を発表しました。 この特別なPDKは、Cadence®Virtuoso®カスタムICデザインプラットフォームをベースにしており、Cadence CurvyCoreエンジンを使用したネイティブな回路合成及び、ルーメリカルの光集積回路シミュレータINTERCONNECTによる電気回路-光回路の協調シミュレーション機能を提供します。フォトニクスに最適化された完全なソリューションは、複雑なマルチファブリックシステムを開発するための単一の効率的な設計環境をSiPho設計者に提供する一方で、400Gbの光トランシーバを実現するために不可欠な電気-光信号インタフェースを利用する為の共有されたIC設計環境での共同作業を可能にします。 タワージャズの上級副社長およびアナログIC事業部ジェネラルマネジャーのMarco Racanelli氏は次のように述べています。「当社は、業界をリードするSiPhoテクノロジーを強化し、ケイデンス社とルーメリカル社との協業を通じ、電子回路向けのSiGeコンポーネント及び光回路向けのSiPhoコンポーネントをともに最適化した単一のEDA環境を提供する、最初のファンドリとなることを非常に嬉しく思います。この新しい技術により、相互のお客様は開発サイクルを短縮し、400Gbと800Gbの画期的な製品の導入を加速することができます。」 タワージャズのこの新しい PDKを利用しているお客様は、Cadence CurvyCore技術を利用し、non-Manhattan型のフォトニクス設計を確実に生成することができます。Cadence CurvyCore技術は、専用のSKILL APIを備えた高性能な図形の生成および操作の為のインフラを用いたCadence Virtuoso環境において、曲線を含む図形の適切な操作を可能にします。 新たに提供されるタワージャズPDKには、以前より使用可能なLumerical Compact Model Library（CML）が含まれており、業界最先端のツールを利用した協調シミュレーションが組み込まれた実証済みのフルソリューションを実現します。 ケイデンス社の研究開発担当バイスプレジデントのGlen Clark氏は次のように述べています。「タワージャズとケイデンスのお客様は、Virtuoso設計環境における高性能な図形生成技術を活用して、完全なマルチチップフォトニクスシステムの開発をさらに進めることができます。タワージャズ、ルーメリカル、ケイデンスは、長年に渡る協業の実績があり、それにより相互のお客様による高品質な製品の迅速かつ容易な市場への投入の成功を可能にします。」 ルーメリカル社のCTOであるJames Pond博士はこう述べています。「フォトニクスの商品化の基準となるのは、世界クラスの企業によるエコシステム開発です。ケイデンスとタワージャズとのパートナシップにより、光集積回路の設計者は使い慣れている先端のツールを使い電子-光学部品とフォトニック部品の協調シミュレーションを行い、彼らが強く信頼するタワージャズでそれらのデザインを製造することができるのです。」 タワージャズのテクノロジーの詳細はこちらをご覧ください。 ケイデンスの詳細についてはこちらをご覧ください。 ルーメリカルの詳細についてはこちらをご覧ください。